研磨和拋光是同一種機械運動，原理一樣。只是對于表面質(zhì)量而言，拋光的表面光潔度比研磨要更高一些。其實拋光液可以說是研磨的后道工序，可以在同一臺平面拋光機上同時實現(xiàn)研磨和拋光。研磨分為粗磨，精磨，拋光則分為粗拋，精拋。很多時候我們都是三道工序來進行產(chǎn)品表面質(zhì)量的加工：粗磨，精磨，精拋。有了這三道工序，工件表面的平面度，平行度，粗糙度就相當(dāng)高了。有些客戶精度要求沒那么高的，特別是粗糙度要求沒有那么高就只采用前兩道工序，或者是精磨這一道工序。具體的要看工件表面本身的質(zhì)量，以及客戶要求達到的質(zhì)量。研磨和拋光可以在同一臺平面拋光機上實現(xiàn)，但是所用的配置卻不一樣。研磨需要用研磨盤和研磨液，拋光則是用拋光液和拋光盤，拋光墊，拋光布，拋光輪等。所用在一臺平面拋光機上實現(xiàn)研磨和拋光時需要研磨后更換盤，液體等配置。 　　  
       平面研磨機是依靠什么打磨轉(zhuǎn)動? 　　  
       平面研磨機又叫圓盤式拋光機，主要依靠研磨盤轉(zhuǎn)動與工件之間的相交力(同向不同速)，在工作過程中添加研磨助劑，增加切削達到鏡面或者亞面的效果!
       平面研磨機技術(shù)應(yīng)用有哪些? 　　  
       當(dāng)前平面研磨機技術(shù)已經(jīng)廣泛應(yīng)用到汽車、家電、IT電子信息高技術(shù)領(lǐng)域和軍用、民用工業(yè)。平面研磨機受到越來越多的關(guān)注和用戶的體驗。高精密研磨加工的精度從微米到亞微米，乃至納米。同時，精密和超精密加工技術(shù)的發(fā)展也促進了機械、模具、液壓、電子、半導(dǎo)體、光學(xué)、傳感器和測量技術(shù)及金屬加工工業(yè)的發(fā)展。高精密磨削的應(yīng)用： 超精密磨削是在一般精密磨削基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種鏡面磨削方法,其關(guān)鍵技術(shù)是金剛石砂輪的修整,使磨粒具有微刃性和等高性。超精密磨削的加工對象主要是脆硬的金屬材料、半導(dǎo)體材料、陶瓷、玻璃等。磨削后,被加工表面留下大量極微細(xì)的磨削痕跡,殘留高度極小,加上微刃的滑擠、摩擦、拋光作用,可獲得高精度和低表面粗糙度的加工表面，當(dāng)前超精密磨削能加工出圓度0.01μm、尺寸精度0.1μm和表面粗糙度為Ra0.005μm的圓柱形零件。于是，超精密磨削就產(chǎn)生了一系列的平面研磨機，包括：鏡面拋光機，雙面研磨機，陶瓷平面研磨機，模具平面拋光機，鋁合金平面拋光機，手機配件拋光機等。 　  
       有什么方法可以提高平面研磨機的工作效率? 　　  
       首先，被磨、拋材料放于研磨盤上，研磨盤逆時鐘轉(zhuǎn)動，修正輪帶動工件自轉(zhuǎn)，重力加壓的方式對工件施壓，工件與研磨盤作相對運轉(zhuǎn)磨擦，來達到研磨拋光目的。 　　  
       研磨盤修整機構(gòu)采用油壓懸浮導(dǎo)軌前后往復(fù)運動，金剛石修面刀給研磨盤的研磨面進行精密修整，得到理想的平面效果。 　　  
       平面研磨機而微艙和超微粉這兩組磨料的粒度號數(shù)是以顆粒的實際尺寸來表示叭其標(biāo)志是在剁粒尺寸數(shù)字的前面加一個字母“W”。比如w 20，是表示磨料顆粒的實際尺寸在20、14微米之間。 　　  
       根據(jù)磨料的不同粒度號乳對磨料的粒度尺寸采用如下不同的分邊與測定方法： 　　  
       (1)粒度12。至220。的磨粗和磨粉采用篩選法分選測定之一。 　  
       (2)粒度240”至280’的密粉則采用篩選法分選，而采用篩選法和顯微鏡分析法聯(lián)合分析來測定，雙面研磨機這是由于篩網(wǎng)的網(wǎng)眼最小只能在o.05一o.06毫米之間(相當(dāng)每時長度上有網(wǎng)孔240、280個)，再小則篩選法就分選不了的緣故。 　  
       (3)粒度由w40以下的微粉和超微粉采用水選法(即沉淀法)分迅并采用顯微鏡分析法來測定。 　　  
       平面研磨機使用方法及保養(yǎng)方法? 　　  
       1.首重心軸精度保養(yǎng), 平日加工時進刀量不要超過0.03mm.    
       2.砂輪掉砂及磨削后的鐵屑容易卡在床臺上, 要定時清除.    
       3. 滑軌要時常保養(yǎng)確保精度. 其他細(xì)節(jié)太多諸如砂輪要平衡校正才上機, 電機系統(tǒng)要注意等。

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